深圳化合物抛光液可按客户要求订制

深圳市朗纳研磨材料有限公司是一家专业从事高精度化学机械抛光产品的研究，开发，生产和经营的企业，位于中国深圳。主要生产的抛光液包括单晶金刚石悬浮液，多晶金刚石深圳市朗纳研磨材料有限公司是一家专业从事高精度化学机械抛光产品的研究，开发，生产和经营的企业，位于中国深圳。主要生产的抛光液包括单晶金刚石悬浮液，多晶金刚石悬浮液，氧化铝抛光悬浮液，氧化铝抛光粉，金相抛光垫，液体抛光蜡，二氧化硅抛光液，氧化铝抛光液，金刚石抛光液，二氧化铈抛光液，碳化硅抛光液，ZrO2抛光液，冷却剂＆研磨液等。应用领域主要集中在led蓝宝石基板，蓝宝石窗口，手机金属外壳的精密抛光，玻璃盖抛光和半导体材料抛光等方面.抛光蜡/浆/膏主要包含抛光蜡 、抛光浆、抛光膏，液态抛光蜡 、液态抛光浆、液态抛光膏、精抛蜡、粗抛蜡，用于表面抛光和镜面抛光。


深圳市朗纳研磨材料有限公司生产的抛光蜡/浆/膏特征:
1.朗纳抛光蜡/浆/膏分为粗抛、精抛2个种类，分别运用在不同制程。
2.朗纳抛光蜡/浆/膏对抛光轮有冷却效果，可避免抛光过程温度过高产生起火的风险，并能增加抛光轮的使用寿命。
3.抛光蜡/浆/膏是水基配方，工件抛光后容易清洗。
4.抛光蜡/浆/膏具有较高抛光效率，精抛蜡能使抛光产品表面产生高光泽及良好耐久性。
5.抛光蜡/浆/膏满足ROHS法规。
6.磨料种类:氧化铝、碳化硅、金刚石等。
7. D50规格:0.5~30微米。
8.固含量:0.1~40%。
9. pH值:7~10。
10.包装:1公斤/瓶；2、5、10、20、25公斤/桶。

深圳市朗纳研磨材料有限公司生产的抛光蜡/浆/膏出光快,镜面光亮度好,能产生保护膜,易于抛光件的清洗，深圳市朗纳研磨材料有限公司是一家生产并销售抛光膏,抛光蜡,研磨光亮剂,干湿滚光油,抛光液,抛光粉，悬浮液等抛光清洗剂光亮剂的生产厂家。
抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。性能稳定、无毒，对环境无污染等作用。

抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，.朗纳研磨材料___r深圳化合物抛光液可按客户要求订制
，具有良好的去油污，深圳市朗纳研磨材料有限公司,.朗纳研磨材料___r深圳化合物抛光液可按客户要求订制
,朗纳研磨材料,防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒，对环境无污染等作用，光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手，批咀、套筒扳手，六角扳手，螺丝刀等，铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后，再使用抛光剂配合振动研磨光饰机，滚桶式研磨光式机进行抛光;1抛光剂投放量为(根据不同产品的大小，光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置)，2:抛光时间:根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。

应用
1. LED行业
目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度 ，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用"软磨硬"的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。
2.半导体行业
CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光。随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术(如:基于淀积技术的选择淀积、溅射等)虽然也可以提供"光滑"的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，它是目前 的可以在整个硅圆晶片上 平坦化的工艺技术。
化合物（compound）主要分为有机化合物和无机化合物.
有机化合物含有碳氢化合物(或叫做烃,hydrocarbon)，如甲烷(methane, CH₄) ，分为：糖类、核酸、脂质和蛋白质。
无机化合物不含碳氢化合物，如硫酸铅(lead (II) sulphate, PbSO4)，分为：酸、碱、盐和氧化物
离子化合物，一般含有金属元素，例如氧化钠
共价化合物，例如水。
抛光液的主要产品可以按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。
多晶金刚石抛光液
多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分，配合高分散性配方，.朗纳研磨材料___r深圳化合物抛光液可按客户要求订制
，可以在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。
主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头等的研磨和抛光。
氧化硅抛光液
氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。
广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
氧化铈抛光液
氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。
适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液
是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。
主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

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